|
|
Integration of nanostructures into functional devices
Citterberg, Daniel ; Mikulík, Petr (oponent) ; Kolíbal, Miroslav (vedoucí práce)
This master thesis is focused on characterization of electrical transport properties of one-dimensional nanostructures. First section of this work deals with theoretical description of the experimental approaches to realization of such measurements. This section involves also a detail discussion of preparation of contacts using e-beam lithography. Next, theoretical description of characterization of nanostructures using photoluminescence measurements is given. Second section describes practical application of the aforementioned electrical transport measurements. Presented results include transport and photoluminescence measurements of WS2 nanotubes, InAs and WO2.72 nanowires. The last section of this thesis deals with nanowire quantum well heterostructures. The section provides both a deeper theoretical view of the problem and results of the photoluminescence measurements are shown.
|
|
|
Design of automated set-up intended for inspection of PMMA coated silicon wafers
Drozd, Michal ; Sobola, Dinara (oponent) ; Knápek, Alexandr (vedoucí práce)
During the coating the substrate with a thin layer of polymer resist several defects can to occur which could damage an exposure by electron beam lithography. The quality of the resist-coated surface prior to the exposure is also very important in terms of the final functionality of the fabricated micro device. The quality of the resist-coated surface can be measured by means of human visual inspection with a visible-light microscope. This bachelor's thesis is focused on the design and assembly of the automated set-up to do this inspection automatically. More precisely, the designed set-up is called WaferScan and it allows to scan a silicon wafer coated with a resist layer. The wafer surface is scanned with an optical camera and the taken images are analyzed using computer to determine the location and the size of the defects and the dust particles in the resist layer. The entire device consists of two moving axes, x and y, (that allow the movement of the camera) and a control electronic circuitry. Software to control the scanning device and the image processing tool were also developed.
|
|
|
SMV-2023-01: Reliéfní struktury na principu diftraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
|
|
SMV-2023-02: Reliéfní optické prvky pro tvarování světelných svazků
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti reliéfních optických prvků pro tvarování světelných svazků, metrologie vzorků reliéfních optických prvků s využitím různých mikroskopických technik s ohledem na analýzu degradací reliéfu ve výrobních procesech, poradenství v oblasti litografických procesů se zaměřením na zápis elektronovým svazkem a následné replikační procesy. Návrh a optimalizace mikrooptických struktur pro různé konfigurace projektorových osvětlovacích systémů, metrologie vybraných optických mikrostrukturovaných reliéfů a analýza optické funkce, optimalizaci materiálů pro replikaci mikrooptických struktur, poradenství v oblasti replikace hlubokých mikrooptických prvků na různé optické povrchy.
|
|
| |
|
|
SMV-2023-05: DI2023
Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Meluzín, Petr ; Košelová, Zuzana ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Knápek, Alexandr
Výzkum se soustředí na zkoumání a vývoj precizních kalibračních vzorků s reliéfními strukturami. Tyto vzorky jsou koncipovány pro kalibraci parametrů ve skenovacích elektronových mikroskopech (SEM). Testovací vzory umožňují ověření kvality zobrazovaní danou mikroskopickou technikou jako je celkové zvětšení, velikost zorného, rozlišení, deformace zobrazení v laterárních osách a další geometrická zkreslení. Pro přípravku jsou využívány precizní litografické techniky a další techniky vycházející z technologií zpracování křemíku z polovodičového průmyslu. Vývoj byl zaměřen na optimalizaci záznamu leptacích masek před přenosem obrazu do monokrystalické křemíkové podložky.
|
|
| |
|
| |
|
|
SMV-2022-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické, resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
|
|
| |
host ::
RSS.